光刻胶系列PHOTORESIST
1、光刻胶定义及主要成分：
光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，目前被广泛用于光电信息产业的微细图形线路加工制作环节。光刻胶由增感剂（光引发剂）、感光树脂（聚合剂）、溶剂与助剂构成。
我们拥有丰富的光刻胶产品线，涵盖了g-line/i-line/KrF/ArF/EUV多种制程，广泛应用于各大FAB，封装工厂，
不仅产品质量卓越，而且价格具有竞争力，能够满足客户的多样化需求。
ArF 光刻胶
KrF 光刻胶
i-Line 光刻胶 Negative PR
i-Line 光刻胶 Positive PR
